新品亮点：双面数字化光刻设备产品的主要特色及核心竞争力在于，利用软件、硬件电路及高精度五轴移动平台实现了直写式双面同步扫描光刻高速量产。解决双面光刻高精度定位问题，减少翻面及检测对准的时间和精度误差。该产品技术创新性在于，通过软件参数调节及引擎标定，双面同时光刻，提高层间对位精度；实时调焦系统，提高光刻精度、效率及质量。产品具有较高行业代表性及模式创新性，减少mask掩模板模具，减少双面板翻面工序，提高生产良率及产量。产品的出现，可以带动电路板行业、显示行业、半导体封装等相关高精细线路要求的行业快速发展。
有意向对接本场新品的朋友，可扫描下方二维码，或登录http://gdsme888.mikecrm.com/28bHpj5留下您的联系方式和对接意向。
